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SEN特殊光源紫外光清洗技術的工作原理及適用範圍

日期：2022-05-21 11:19
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摘要：
 SEN特殊光源紫外光清洗技術的工作原理
    SEN特殊光源紫外光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表麵上的有機物質，經過光清洗後的材料表麵可以達到“原子清潔度”。更詳盡的講：UV光源發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表麵時,由於大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,並在吸收185nm波長的紫外光的能量後分解成離子、遊離態原子、受激分子和中子，這就是所謂光敏作用。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光後也會產生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表麵上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表麵，從而徹底**了黏附在物體表麵上的碳和有機汙染物。清洗時，使基板治濕性向上。玻璃基板是以滾輪方式輸送，上方裝置低壓水銀燈產生紫外線照射。玻璃基板所累積紫外線能量愈多，其表麵水接觸愈小，成反比關係。一般STN-LCD製作過程中，需求的玻璃基板累積紫外線能量為300nj/cm2(253.7nm)以上。而彩STN-LCD及彩色濾光片製作過程中，要求的玻璃基板累積紫外線能量600mj/cm2(253.7nm)。 
適用範圍
    液晶顯示器件、觸摸屏、半導體矽芯片、集成電路、高精度印製電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料。

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